JM580BD科研级晶圆检测显微镜
JM580BD科研级晶圆检测显微镜搭载无限远半复消光学系统，支持明场/暗场/偏光/DIC 微分干涉观测，8 英寸大工作台，适用于晶圆、芯片、FPD、PCB 切片缺陷检测与金相量化分析。
产品内容介绍
◆ 产品简介：
仪卡墨光学研究级晶圆材料检测显微镜JM580BD采用半复消技术，无限远色差校准光学系统，集明场，暗场及偏光等多种照明方式，可升级微分干涉显微镜。适合晶圆/芯片/LCD行业/粒子爆破检查。配有大尺寸工作台适合8寸的半导体FPD检查，线路板切片测量，晶圆检测以及高分子材料的分析。
明场模式：基础通用模式，光路简单易操作，成像真实均匀，适配金相形貌观测、尺寸测量、常规质检与数据量化分析。
暗场模式：平整基底发黑，缺陷、毛刺、微孔、裂纹会高亮凸显，微小不良辨识度极强，多用于焊点、板面的失效缺陷排查。
偏光观察：依靠偏振色差区分晶粒，360度旋转式检偏器，清晰勾勒晶界、统计晶粒尺寸；可甄别不同物相，检测材料焊接、加工产生的残余应力。
DIC（微分干涉）：表面微小凹凸自带立体浮雕效果，无需腐蚀染色，清晰观测线路、焊点轮廓、细微划痕与界面形貌，测量精度高。
◆ 性能特点：
◆无限远半复消明暗场光学系统
标配半复消校正物镜，完善校正球差、色差、场曲，明暗场成像通透锐利，边缘无畸变，满足研究级高精度成像标准，长期观测视觉舒适。
◆落射+透射双独立照明系统 双光路分离设计，落射光观测金属、芯片、PCB 等不透光固体样品；透射光适配薄膜、薄片、透明高分子材料，一套设备覆盖两类样品检测需求。
◆多功能集成观测模块（明场 / 暗场 / 偏光 / 选配DIC 微分干涉）
◆360°无旋转载物台检偏结构，检偏器支持 360° 自由旋转，观测时无需挪动样品，直接切换偏振角度观察晶体、薄膜、镀层的光学各向异性，操作便捷，避免样品移位影响测量精度。
◆工业精密检测适配性强 专为中小尺寸半导体晶圆、FPD显示屏、PCB切片、金相试样开发，可完成微观尺寸测量、缺陷筛查、材料组织结构分析，消除观测杂散光，细微纹路、颗粒清晰可见。
◆模块化拓展设计 光路采用插板式组件设计，起偏镜、检偏镜、DIC棱镜均可快速拆装，按需选配功能模块，灵活匹配不同检测场景，支持搭配工业相机、图像分析软件，实现拍照、测量、数据存档一体化。
◆整机稳定耐用，适配长期批量质检 机身机械结构精密顺滑，光路密封防尘，适配实验室长期科研、工厂产线批量抽检，成像一致性稳定，长期使用不易出现光衰、对焦偏移问题。
◆ 技术参数：
平场目镜 | 正像大场高眼点目镜SWH10X-H/23mm 正像大场高眼点目镜SWH10X-H/25mm（选配） |
物镜 | 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜5X NA0.15 WD14.8 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜10X NA0.30 WD8.5 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜20X NA0.40 WD11.9 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜50X NA0.75 WD3.0 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜100X NA0.90 WD1.0（选购） |
光学放大倍数 | 50X-500X（选购100倍物镜后放大倍数50-1000） |
数码放大倍数 | 150-3000X(搭配1200万相机及100倍物镜，显示器22英寸情况下) |
观察头 | 正向无限远铰链三通观察筒，瞳距调节：50mm~76mm，两档分光比双目:三目=100：0 |
转换器 | 5孔明场物镜转换器（带DIC插槽）. |
调焦机构 | 透反射用机架, 低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程35mm,微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。内置100-240V宽电压系统，采用数字调光，具有光强设定与复位功能 |
载物台 | 8英寸平台，平台面积 525*330mm，移动行程：210mmX210mm机械平台，X、Y方向同轴调节；含快速移动装置 |
偏光组件 | 起偏镜插板，360°旋转式检偏镜插板 |
反射照明系统 | 明暗场反射照明器，带可变孔径光阑，视场光阑，中心可调，带滤色片插槽，带起偏镜/检偏镜插槽，5W可调LED灯室，预定中心 |
透射照明系统 | 10W可调LED灯室，透、反射通用，预定中心 |
聚光镜 | 摇出式消色差聚光镜（N.A.0.9） |
摄像接口 | 摄像摄影附件：0.65X（可选配1X、0.5X） |
干涉组件 | 诺曼尔基微分干涉板（选购） |
显微镜工业相机 | 高清1200万显微相机 或2000万像素 （选购） |
图像处理软件 | 拍照，录像，测量，实时图像拼接，景深融合等（选购） |
标尺 | 高精度型测微尺，格值0.01m 总长1mm（选购） |
晶圆转台 | 8寸通用晶圆转台兼容6/4寸（选购） |
